基于多孔陶瓷的机场缓冲地带

时间:2024-04-02    来源:    作者:

专利名称:基于多孔陶瓷的机场缓冲地带

专利授权号:ZL 2023 2 0874549.8

完成人:黄华强, 花开慧, 黎骏, 梁焯琪, 张昕怡, 张少秋, 赵佳俊, 吴锐杰, 劳珈颖

授权时间:2023-11-10

授权国别:中国